本文摘要：湿法光刻是利用适当的光刻液再行将晶圆要光刻的膜展开分解成，再行把其变成可溶性的化合物并除去，那湿法光刻清洗机的结构和工作原理是什么？

湿法光刻是利用适当的光刻液再行将晶圆要光刻的膜展开分解成，再行把其变成可溶性的化合物并除去，那湿法光刻清洗机的结构和工作原理是什么？今天就带上大家瞧一瞧。一、光刻清除设备分类湿法光刻清洗机按清除的结构方式可以分成槽式批量清除和单片清洗机两种类型。而槽式清除又可分成半自动清除和全自动清除两种机台。

二、清除设备结构构成清除设备主要由耐腐蚀机架、酸槽、水槽、潮湿槽、掌控单元、排风单元以及气体和液体管路单元等几大部分包含。▲湿法光刻清洗机的结构组成部分其中酸槽和管路单元是清除设备的主要组成部分。

按照材料的差异，槽体可分成用不锈钢材质的生产的槽、用NPP材质生产的抗腐蚀的槽、用PVDF材质生产的槽、用PTFE材质生产的槽、用石英材质生产的槽等，按照功能的差异槽体又可分成酸碱光刻槽、溢流清除槽、较慢排水槽和使晶圆较慢潮湿的潮湿槽等，根据清除工艺拒绝的有所不同，还可以减少生锈液的成像及兆声清除、生锈液冷却或加热器、加热、循环及去离子水冷却等清除功能。在材料自由选择上，不锈钢槽主要用作有机溶液或碱性溶液；而石英冷却槽主要用作酸性溶液，而且该槽耐高温，一般为二百摄氏度，最低可以超过四百摄氏度；高纯度聚丙烯槽主要用作温度大于八十摄氏度的酸碱溶液；聚氟乙烯槽经常用来承装BOE以及氢氟酸，拒绝温度最低无法低于一百二十摄氏度。聚四氟乙烯槽可用作完全所有的酸碱以及有机溶液，其耐温大于150摄氏度。

在功能自由选择上，QDR槽即较慢灌溉清除槽经常用于在酸碱光刻后对去离子水的冲洗工艺上。其工作原理是再行从该槽体上部喷淋以及底部流经去离子水，等到一定量后在把去离子水较慢排空。通过把去离子水较慢排走拿走杂质离子。

这一过程一般要重复展开3－4个循环。其工作原理如图1右图。

▲图1QDR槽清除原理图成像槽是指利用槽体底部或侧面成像收到振板产生超声波，超声波，超声波在水中或溶液中分解大量的气泡，气泡裂痕获释强劲的动能。超声波的频率一般来说为28kHz或48kHz，频率越高，清除的颗粒就越小。

工艺生锈槽是指利用各类酸碱光刻液以及有机溶液，构建某些光刻过程或清除的效果。溢流槽的工作原理为底部持续流经去离子水，从上部四周外溢，从而通过水流拿走污染物。其工作原理如图2右图。

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